品名: | 溅射靶材 |
产地: | CNM |
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磁控溅射靶材
(可为电子与半导体,平面显示行业,建筑与汽车玻璃行业,薄膜太阳能电池行业,磁存储行业,工具行业,装饰行业提供高品质靶材)
高纯单质金属溅射靶材(3N-6N):铝靶材Al,铬靶材Cr,铜靶材Cu,镍靶材Ni,硅靶材Si,锗靶材Ge,铌靶材Nb,钛钯材Ti,铟靶材In,银靶材Ag,锡靶材Sn,石墨靶材C,钽靶材Ta,钼靶材Mo,金靶材Au,铪靶材Hf,锰靶材Mn,锆靶材Zr,镁靶材Mg,锌靶材Zn,铅靶材Pb,铱靶材Ir,钇靶材Y,铈靶材Ce,镧靶材La,镱靶材Yb,钆靶材Gd,铂靶材Pt等高纯单质金属溅射靶材。
高密度陶瓷溅射靶材(3N-5N):ITO靶材、AZO靶材,IGZO靶材,氧化镁靶材MgO、氧化钇靶材Y2O3,氧化铁靶材Fe2O3,氧化镍靶材Ni2O3,氧化铬靶材Cr2O3、氧化锌靶材ZnO、硫化锌靶材ZnS、硫化镉靶材CdS,硫化钼靶材MoS2,二氧化硅靶材SiO2、一氧化硅靶材SiO、二氧化锆靶材ZrO2、五氧化二铌靶材Nb2O5、二氧化钛靶材TiO2,二氧化铪靶材HfO2,二硼化钛靶材TiB2,二硼化锆靶材ZrB2,三氧化钨靶材WO3,三氧化二铝靶材Al2O3,五氧化二钽靶材Ta2O5、氟化镁靶材MgF2、硒化锌靶材ZnSe、氮化铝靶材AlN,氮化硅靶材Si3N4,氮化硼靶材BN,氮化钛靶材TiN,碳化硅靶材SiC,铌酸锂靶材、钛酸镨靶材、钛酸钡靶材、钛酸镧靶材等高密度陶瓷溅射靶材.
备注:CNM生产的陶瓷靶材采用世界最先进的陶瓷生产工艺—惰性气体保护热等静压烧结技术,相对密度大于95-99%。可以提供靶材的金属化处理及绑定服务。
高纯合金溅射靶材:镍钒合金靶材Ni-V,镍铬合金靶材Ni-Cr,钛铝合金靶材Ti-Al,硅铝合金靶材Si-Al,铜铟合金靶材Cu-In,铜镓合金靶材Cu-Ga,铜铟镓合金靶材Cu-In –Ga,铜铟镓硒靶材Cu-In –Ga-Se,不锈钢靶材,锌铝合金靶材Zn-Al,钨钛 靶材W-Ti,铁钴靶材 Fe-Co,白铜靶材等高纯合金溅射靶材。
备注:CNM生产的高纯合金溅射靶材:晶粒度小150-60um,相对密度高(99-99.9%),纯度高(99.9-99.999%)。可以提供靶材的金属化处理及绑定服务。