点击图片查看大图| 是否提供加工定制：是 | 品牌：正达真空设备 | 型号：齐全 |
| 适用范围：符合 | 产品别名：真空镀膜设备 | 电镀电源：双脉冲电源 |
| 电镀位置：压板式喷镀 | 镀种：镀银系列 |
CDA-G系列光学蒸发镀膜机
特征：
光学蒸发镀膜设备，装备有CDA-O系列电子枪，蒸发稳定性好，霍尔离子源的镀前离子清洗使膜厚牢固，镀制各种颜色的增透膜以及红、黄、绿等颜色的反光膜，幻彩膜，AB彩，彩色膜、增透膜、反光膜、金属膜、导电膜等各种类型光学膜层。
在提供设备同时，我们还可向用户提供镀膜工艺，使用户顺利投入生产。
部份机器技术参数如下：
型号 |
CDA-0808G |
CDA-1010G |
CDA-1212G |
CDA-1414G |
CDA-1515G |
CDA-1616G |
真空室尺寸(mm) |
Φ800×800 |
Φ1000×1000 |
Φ1250×1250 |
Φ1400×1400 |
Φ1500×1500 |
Φ1600×1600 |
蒸发方式 | 电阻及电子束蒸发方式 | |||||
夹具方式 | 球面形或盘形 | |||||
离子源轰击源 | 任选 | |||||
膜厚测控 | 光控或石英晶控 | |||||
深冷系统 | 选配 | |||||
可根据镀膜的种类及工作量的大小选择不同型号的机型，也可根据镀膜过程的实际要求由我方工程技术人员协助设计特殊型号的真空镀膜设备。
CDA450 — 2200 P系列中频磁控镀膜机
CDA450 — 2200P系列中频磁控镀膜机。采用频率为数十千赫兹的中频电源，配备经过严格磁路设计的孪生靶（对靶），可以避免 “打火”、“阳极消失”、“靶中毒”等现象，提高了离化率、溅射速率，显著提高沉积速度，适合做化合物薄膜（如TiO2、TiN、TiC、TiCN、TiAlN等）的沉积。中频磁控离子镀膜机在近几年得到了迅猛的发展，在钟表、眼镜、五金等装饰度领域得到广泛的应用，可以进行离子溅射镀铝、铜、不锈钢、贵金属等，可以精确的控制膜厚，是镀各种塑胶、陶瓷、玻璃、手机配件，电器外壳等材料的首选机器，一机多用是该机型的价值所在。
部份机器技术参数如下：
型号规格 | CDA450————CDA2200P |
真空室直径 | Ф450mm————2200mm |
真空室高度 | 500mm————2400mm |
真空泵组 | 扩散泵，罗茨泵，旋片泵 |
真空测量 | 多路测量复合真空计 范围 105---10-5 Pa |
控制方式 | 触摸手动或全自动 |
配气系统 | 高灵敏度MFC，多路独立控制，气管室体内部特殊 设计布置 |
加热系统 | PID智能控温，温度均匀 |
工件系统 | 6轴—16轴变频无级调速行星式公自转 |
极限真空 | 1×10-3 Pa |
冷却系统 | 压力流量同步测量控制 |
功率消耗 | 20KW————120KW |
可根据镀膜的种类及工作量的大小选择不同型号的机型，也可根据镀膜过程的实际要求由我方工程技术人员协助设计特殊型号的真空镀膜设备。 
