点击图片查看大图| 加工定制: | 否 |
| 型号: | MA750 |
Micro-ControleMA750光罩对准曝光系统，利用紫外线通过模版对光刻胶进行曝光的设备，该设备采用手动调节平台，具有很高的定位精度，控制精度在0.1毫米，该设备为制造一般光学器材、印刷、薄膜电路等器件生产的设备。
主要工作原理：利用聚焦光束对有机聚合物（通常称光刻胶）进行曝光，受电子束辐照后的光刻胶，其物理化学性质发生变化，在一定的溶剂中形成良溶或非良溶区域，从而在抗蚀剂上形成精细图形。该系统可处理最大8“晶圆，工作模式为接近式。利用手动调节杆，通过操纵杆来控制丝杆，调节基片台位置，以保证晶圆与光掩模板精确对准。
注：具体细节请联络我公司技术部
