加工定制: | 否 |
型号: | MA56 |
Karl SUSS MA56光罩对准曝光系统,利用紫外线通过模版对光刻胶进行曝光的设备,该设备为大规模集成电路、传感器、表面波元件、微波、LED、CCD等器件生产的重要生产设备,适用于Si, SiGe, SOI, SOS, GaAs, InP, InSb, CZT, MCT,LiNbO3等各种基材。
主要工作原理:利用聚焦光束对有机聚合物(通常称光刻胶)进行曝光,受电子束辐照后的光刻胶,其物理化学性质发生变化,在一定的溶剂中形成良溶或非良溶区域,从而在抗蚀剂上形成精细图形。该系统可处理4“晶圆,工作模式有接近式、接触式、真空接触模式。显微镜具有双重的定位目标和分现场观看。基片台依靠电动驱动,可在X和Y方向移动定位,以保证晶圆与光掩模板精确对准。
主要组成部分:光源,为30瓦的氘灯,波长为310 nm,一个350瓦汞弧灯,波长为365 nm。预对准板、晶片传送系统,可支持2“,3”,4“的光刻卡盘系统。 支持紫外近紫外波长的显微镜对准系统。其他有机器手、电源控制、操作面板等。