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Karl SUSS MA56光罩对准曝光系统
Karl SUSS MA56光罩对准曝光系统
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产 品: Karl SUSS MA56光罩对准曝光系统 
型 号: MA56 
单 价: 面议 
最小起订量:  
供货总量: 1000000000 公斤
发货期限: 自买家付款之日起 天内发货
更新日期: 2024-11-05  有效期至:长期有效
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详细信息
加工定制:
型号:MA56

Karl SUSS MA56光罩对准曝光系统,利用紫外线通过模版对光刻胶进行曝光的设备,该设备为大规模集成电路、传感器、表面波元件、微波、LEDCCD等器件生产的重要生产设备,适用于Si, SiGe, SOI, SOS, GaAs, InP, InSb, CZT, MCTLiNbO3等各种基材。

主要工作原理:利用聚焦光束对有机聚合物(通常称光刻胶)进行曝光,受电子束辐照后的光刻胶,其物理化学性质发生变化,在一定的溶剂中形成良溶或非良溶区域,从而在抗蚀剂上形成精细图形。该系统可处理4“晶圆,工作模式有接近式、接触式、真空接触模式。显微镜具有双重的定位目标和分现场观看。基片台依靠电动驱动,可在XY方向移动定位,以保证晶圆与光掩模板精确对准。

主要组成部分:光源,为30瓦的氘灯,波长为310 nm,一个350瓦汞弧灯,波长为365 nm预对准板、晶片传送系统,可支持2“3”4“的光刻卡盘系统。 支持紫外近紫外波长的显微镜对准系统。其他有机器手、电源控制、操作面板等。

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