真空镀膜机主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，PLD激光溅射沉积等很多种。主要思路是分成蒸发和溅射两种。
需要镀膜的被称为基片，镀的材料被称为靶材。 基片与靶材同在真空腔中。
真空镀膜一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来。并且沉降在基片表面，通过成膜过程（散点－岛状结构-迷走结构-层状生长）形成薄膜。 对于溅射类镀膜，可以简单理解为利用电子或高能激光轰击靶材，并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来，并且最终沉积在基片表面，经历成膜过程，最终形成薄膜。
随着真空镀膜设备的工艺发展不断的创新，硬质薄膜的设计也向着多元化、多膜化的方向发展，至今已经是现代企业首选的镀膜工艺。其实镀膜机的正常操作方法应该参考操作手册的指示操作。今天青岛双益真空镀膜小编给大家分享简单的操作方法：
1、检查真空镀膜设备各操作控制开关是否在"关"位置。
2、 打开总电源开关，真空镀膜设备送电。
3、低压阀拉出。开充气阀，听不到气流声后，启动升钟罩阀，钟罩升起。
4、安装固定钨螺旋加热子。把PVDF薄膜和铝盖板固定在转动圆盘上。把铝丝穿放在螺旋加热子内。清理钟罩内各部位，保证无任何杂质污物。
5、落下钟罩。
6、启动真空镀膜设备抽真空机械泵。
7、开复合真空计电源（复合真空计型号：Fzh-1A)。
8、多弧离子镀膜机当低真空表“2”内指针再次顺时针移动至6.7Pa时，低压阀推入。
9、真空镀膜设备开通冷却水，启动扩散泵，加热40min。
10、低压阀拉出。立式单开门镀膜机重复一次⑦动作程序：左下旋钮“1”转至指向2区段测量位置。低真空表
“2”内指针顺时针移动，当指针移动至6.7Pa时，开高压阀。
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