真空镀膜行业发展的不足及趋势分析
1 、行业发展概况
真空镀膜是指在真空环境下，将某种金属或金属化合物以气相的形式沉积到材料表面（通常是非金属材料），属于物理气相沉积工艺（PVD）。因为镀层常为金属薄膜，故也称真空金属化。广义的真空镀膜还包括在金属或非金属材料表面真空蒸镀聚合物等非金属功能性薄膜。
真空镀膜有三种形式，即蒸发镀膜、溅射镀膜和离子镀。其中，蒸发物质的分子被电子碰撞电离后，以离子沉积在固体表面，称为离子镀。这种技术是 D.麦托克斯于 1963 年提出的。离子镀是真空蒸发与阴极溅射技术的结合。真空离子镀膜又可分为电弧离子镀、磁控溅射离子镀、空心阴极离子镀膜三种方式。
真空镀膜的功能是多方面的，这也决定了其应用场合非常丰富。总体来说，真空镀膜的主要功能包括赋予被镀件表面高度金属光泽和镜面效果，在薄膜材料上使膜层具有出色的阻隔性能，提供优异的电磁屏蔽和导电效果。如手表外壳镀仿金色，机械刀具镀膜等。
真空镀膜技术的发展是最快的，它已经成为了当代**的表面处理方法之一。真空镀膜技术初现于 20 世纪 30 年代，四五十年代开始出现工业应用，工业化大规模生产开始于 20 世纪 80 年代，在电子、航天、包装、装潢、烫金印刷等工业中取得广泛的应用。真空镀膜的功能是多方面的，这也决定了其应用场合非常丰富。真空镀膜技术使得固体表面具有耐磨损、耐高温、耐腐蚀、**、防辐射、导电、导磁、绝缘和装饰等许多优于固体材料本身的优越性能，达到提高产品质量、延长产品寿命、节约能源和获得显著技术经济效益的作用。因此真空镀膜技术被誉为最具发展前途的重要技术之一，并已在高新技术产业化的发展中展现出诱人的市场前景。
