加工定制: | 是 |
种类: | 溅射用 |
特性: | 溅射用靶材 |
用途: | 用于半导体器件溅射镀膜 |
半硬态: | Y2 |
硬态: | Y |
半导体器件溅射用高纯铝靶(4N9、5N9)标准靶、异型靶,此外我公司还生产金靶、银靶、铜靶、硅靶、钛靶及各类合金靶材,欢迎新老客户致电:15222228147
免责声明:本文所用视频、图片、文字如涉及作品版权问题,请第一时间告知,我们将根据您提供的证明材料确认版权并立即删除内容。
|
加工定制: | 是 |
种类: | 溅射用 |
特性: | 溅射用靶材 |
用途: | 用于半导体器件溅射镀膜 |
半硬态: | Y2 |
硬态: | Y |
半导体器件溅射用高纯铝靶(4N9、5N9)标准靶、异型靶,此外我公司还生产金靶、银靶、铜靶、硅靶、钛靶及各类合金靶材,欢迎新老客户致电:15222228147
免责声明:本文所用视频、图片、文字如涉及作品版权问题,请第一时间告知,我们将根据您提供的证明材料确认版权并立即删除内容。