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供应磁控溅射靶材
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供应磁控溅射靶材

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规 格: &phi 
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最后更新: 2025-03-12
 
 
产品详细说明 收藏此产品
材质:钛铝,铬铝,硅
产地:北京
规格:φ100*40mm
用途:离子镀膜

常用靶材种类

成份及纯度

规格型号

 钛铝(TiAl)

原子比6733

¢100&tiMES;40mm

 钛铝(TiAl)

原子比5050

¢100×40mm

 钛铝(TiAl)

原子比4060

¢100&tiMES;40mm

 钛铝(TiAl)

原子比3367

¢100×40mm

 钛铝(TiAl)

原子比3070

¢100×40mm

 钛铝(TiAl)

原子比2575

¢100×40mm

 

 

 

钛铝硅(TiAlSi)

原子比306010

¢100×40mm

 

 

 

 铬铝(CrAl

原子比5050

¢100×40mm

铬铝(CrAl

原子比4060

¢100×40mm

铬铝(CrAl

原子比3367

¢100×40mm

铬铝(CrAl

原子比3070

¢100×40mm

铬铝(CrAl

原子比2575

¢100×40mm

 

 

 

铬铝硅(CrAlSi

原子比306010

¢100×40mm

 

 

 

其它

板状管状等

  定制

 

 

 

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