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硒化铋靶材Bi2Se3磁控溅射靶材
发布时间:2020-08-28 08:24

科研实验专用硒化铋靶材Bi2Se3磁控溅射靶材电子束镀膜蒸发料

产品介绍

      硒化铋(Bi2Se3)为斜方六面体晶结构,密度6.82g/cm³,熔点:710℃,不溶于碱,易为浓酸、王水所分解。由硒和铋直接反应或氧化铋和硒化氢作用制取,为半导体材料和温差电材料。

产品参数

中文名硒化铋     分子式Bi2Se3

熔点 710℃       密度 6.82g/ml

支持靶材定制,请提供靶材产品的元素、比例(重量比或原子比)、规格,我们会尽快为您报价!!

服务项目:靶材成份比例、规格、纯度均可按需定制。科研单位货到付款,质量保证,售后无忧!

产品附件:发货时产品附带装箱单/质检单/产品为真空包装

适用仪器:多种型号磁控溅射、热蒸发、电子束蒸发设备

质量控制:严格控制生产工艺,采用辉光放电质谱法GDMS或ICP光谱法等多种检测手段,分析杂质元素含量保证材料的高纯度与细小晶粒度;可提供质检报告。

加工流程:熔炼→提纯→锻造→机加工→检测→包装出库

      陶瓷化合物靶材本身质脆且导热性差,连续长时间溅射易发生靶裂情况,绑定背靶后,可提高化合物靶材的导热性能,提高靶材的使用寿命。我们强烈建议您,选购陶瓷化合物靶材一定要绑定铜背靶!

      我公司采用高纯铟作为焊料,铟焊厚度约为0.2mm,高纯无氧铜作为背靶。

      注意:高纯铟的熔点约为156℃,靶材工作温度超过熔点会导致铟熔化!绑定背靶不影响靶材的正常使用!

      建议:陶瓷脆性靶材、烧结靶材,高功率下溅射易碎,建议溅射功率不超过3W/cm2