镉靶材Cd磁控溅射靶材_行业解决方案

镉靶材Cd磁控溅射靶材

发布时间：2020-08-28 08:24

科研实验专用镉靶材Cd磁控溅射靶材电子束镀膜蒸发料

产品介绍

镉（Cd）是银白色有光泽的金属，有韧性和延展性，可溶于酸，但不溶于碱，在潮湿空气中缓慢氧化并失去金属光泽，加热时表面形成棕色的氧化物层，若加热至沸点以上，则会产生氧化镉烟雾；高温下镉与卤素反应激烈，形成卤化镉，也可与硫直接化合，生成硫化镉。镉主要用于钢、铁、铜、黄铜和其他金属的电镀，对碱性物质的防腐蚀能力强；可用于制造体积小和电容量大的电池；镉的化合物还大量用于生产颜料和荧光粉；硫化镉、硒化镉、碲化镉用于制造光电池。

产品参数

中文名镉符号 Cd 分子量 112.41

沸点 767℃ 熔点 321.1℃ 密度 8.65g/cm3

纯度99.999%

支持靶材定制，请提供靶材产品的元素、比例（重量比或原子比）、规格，我们会尽快为您报价！！

服务项目：靶材成份比例、规格、纯度均可按需定制。科研单位货到付款，质量保证，售后无忧！

产品附件：发货时产品附带装箱单/质检单/产品为真空包装

适用仪器：多种型号磁控溅射、热蒸发、电子束蒸发设备

质量控制：严格控制生产工艺，采用辉光放电质谱法GDMS或ICP光谱法等多种检测手段，分析杂质元素含量保证材料的高纯度与细小晶粒度；可提供质检报告。

加工流程：熔炼→提纯→锻造→机加工→检测→包装出库

陶瓷化合物靶材本身质脆且导热性差，连续长时间溅射易发生靶裂情况，绑定背靶后，可提高化合物靶材的导热性能，提高靶材的使用寿命。我们强烈建议您，选购陶瓷化合物靶材一定要绑定铜背靶！

我公司采用高纯铟作为焊料，铟焊厚度约为0.2mm，高纯无氧铜作为背靶。